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一台光刻机一天能产多少芯片

合明科技 👁 2533 Tags:光刻机先进封装清洗倒装芯片清洗

一台光刻机一天能产多少芯片

光刻机又叫掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是制造芯片的核心装备。光刻也被称为光学平版刻法或紫外光刻,是一种在薄膜或基板(也被称为“晶圆”)上对零件图形化的精密加工工艺。简单来说,光刻机就是通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,不同光刻机的成像比例不同,有5:1的,也有4:1的。然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图(即芯片)。

那么一台光刻机一天能产多少芯片呢?接下来小编就给科普一下关于光刻机产量的相关知识,希望能对您有所帮助!

光刻机.png

在光刻机的领域,一项关键指标被称为WPH,即一小时单位产能。现代先进的DUV光刻机已经能够达到每小时处理200片以上。然而,光刻机数量有限,一家半导体工厂通常只有大约10多台,这些光刻机的性能也不尽相同。举例来说,一个拥有3万片产能的28纳米工艺工厂可能只有2台最先进的光刻机,其他光刻机则采用不同的型号。

但是,光刻机的最大WPH只是影响月产能的一部分因素。28纳米工艺需要经历多次光刻步骤,每片晶圆通常需要反复曝光13到15次。因此,产能的瓶颈并不只是光刻机,还包括其他制程设备的性能和数量。

关于光刻机是否够本,需要从产业寿命周期的角度来看。光刻机的前道设备,尽管可能看似利润有限,但在长期发展中,这些设备成为了半导体产业的关键环节。在中国这样庞大的国内市场中,一个产业集群具有巨大的消化能力。因此,前道光刻机的成本可以逐渐被消化,而不是成为制约产业发展的因素。

然而,对于前道光刻机制造装备,特别是高端前道光刻机,中国目前仍然存在研发和制造上的短板。全球最强大的光刻机制造商ASML的市场份额在全球达到了80%,这反映出了中国在前道光刻机领域的不足。然而,光刻机只是半导体生产线的一部分,而且中国在其他制程设备方面已经有了一定的实力。

倒装芯片清洗.png

以上是关于硅片清洗方法的相关内容介绍了,希望能对您有所帮助!

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