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合明科技分析:影响水基清洗剂在清洗过程损耗的因素有哪些?

发布日期:2019-06-21 发布者:合明科技Unibright 浏览次数:1502

合明科技分析:影响水基清洗剂在清洗过程损耗的因素有哪些?

合明科技专注精密电子清洗技术20多年,是SMT贴装/DIP封装,功率半导体器件及芯片封装精密清洗工艺技术方案、产品、清洗设备提供商。精密电子清洗除焊后助焊剂、锡膏、焊膏、球焊膏、焊锡膏、锡渣等残留物。水基系列产品,精细化对应涵盖从半导体封测到PCBA组件终端,包括有水基和半水基清洗剂,碱性和中性的水基清洗剂等。具体表现在,在同等的清洗力的情况下,合明科技的兼容性较佳. 先进封装包括倒装芯片、WLCSP晶圆级芯片封装、3D IC集成电路封装、SiP系统级封装、细间距封装等等。

关键词导读:PCBA线路板、PCB、免洗助焊剂、水基清洗、电子元器件、SMT波峰焊、回流焊

芯片封装清洗剂合明科技QQ截图20210803085040.png

一、水基清洗剂的损耗:

在水洗过程中,清洗阶段流失了清洗剂,水通过雾气疏散到通风排气口,水蒸汽进入到通风排气口,并且拖拽清洗液进入化学分离阶段,称之为:排气和带离造成额损耗

为了维持低成本最低化的过程,这三种类型损失需要被降到最低。

蒸发、排气损失是受排气、温度、流体流动、流体压力和蒸汽压力影响:

1.      高吸气增加了清洗剂损失至耗尽的水平。为了解决这类问题,空气流动必须被适当地平衡、控制或者辅以气体回收装置。

2.      目前,液体处理时,水是十分易挥发的溶剂。清洗温度增加了水分子由液态转变成雾水混合状态的趋势。

3.      水将会带有一些有机原料从排气管中排出。因此,具有高气压的水处理设备正以更快的速率损失至耗尽。

4.      水流和水压增加了喷淋室中水珠和水雾混合状态的浓度。水珠和水雾在空气中浓度的增加又必然导致更多清洁设备的损耗。

5.      液态的有蒸发成气态的趋势,并且所有的气体也有凝结成液体的趋势。随着清洗温度的增加水蒸气的压力和所用的原材料变得足够去克服气压然后将液体气化并且直到耗尽。

蒸发所导致的的水和水基清洗剂的损失通常不是1:1 。低蒸气压成分往往凝结回到清洗箱。

携带者清洗箱里的清洗液到下一个处理流程。对于单室机和多室机,存在于机箱、管道以及产品硬件上的清洗箱里的清洗液到下一个处理流程。

以上一文,仅供参考!

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针对电子制程精密焊后清洗的不同要求,合明科技在水基清洗方面有比较丰富的经验,对于有着低表面张力、低离子残留、配合不同清洗工艺使用的情况,自主开发了较为完整的水基系列产品,精细化对应涵盖从半导体封测到PCBA组件终端,包括有水基和半水基清洗剂,碱性和中性的水基清洗剂等。具体表现在,在同等的清洗力的情况下,合明科技的兼容性较佳,兼容的材料更为广泛;在同等的兼容性下,合明科技的清洗剂清洗的锡膏种类更多(测试过的锡膏品种有ALPHA、SMIC、INDIUM、SUPER-FLEX、URA、TONGFANG、JISSYU、HANDA、OFT、WTO等品牌;测试过的焊料合金包括SAC305、SAC307、6337、925等不同成分),清洗速度更快,离子残留低、干净度更好。

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以上为本公司一些经验的累积,因工艺问题内容广泛,没有面面俱到,只对常见问题作分析,随着电子产业的不断更新换代,新的工艺问题也不断出现,本公司自成立以来不断的追求产品的创新,做到与时俱进,熟悉各种生产复杂工艺,能为各种客户提供全方位的工艺、设备、材料的清洗解决方案支持。

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